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工業(yè)制造行業(yè)解決方案(14)
作者:admin 內(nèi)容來源:本站原創(chuàng) 發(fā)布時間:2016年04月27日 瀏覽量:
工業(yè)制造行業(yè)全面解決方案

硅晶片表面光阻薄膜厚度測量(UV)

很多方法都可以用來測量薄膜的厚度。這些方法中,紫外可見分光光度計提供了簡便的、對薄膜厚度不造成損害的測量方式。

對硅片上兩個不同厚度的光阻層(0.5 µm, 3.0 µm)進行測量。結(jié)果發(fā)現(xiàn),薄膜越薄,波的周期越長,反之亦然。

工業(yè)制造行業(yè)解決方案

工業(yè)制造行業(yè)解決方案

紫外可見分光光度計

允許對所有種類的薄膜進行簡易的并且不造成薄膜厚度損害的測量。從薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一個干涉圖。在一定波長范圍內(nèi),薄膜的厚度可通過光譜上波的數(shù)量計算得到(在物質(zhì)的折射率已知的情況下)。


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